横浜国立大学 國分研究室

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研究施設

学生室や実験室は基本的には大学院工学研究棟にあります.

クリーンルーム

クラス10,000
クラス1,000(イエロールーム)
クリーンルームとは空気清浄度が確保された部屋のことで,光導波路や半導体集積回路等を製造するためには必要不可欠な環境です.本研究室のクリーンルームには,1立方フィートあたりの0.5ミクロン大以下のゴミやチリの数が10,000以下に制御されたクラス10,000と,それが1,000以下に制御されたクラス1,000の二部屋があります.

RFスパッタ装置

RF(Radio Frequency)スパッタ装置は光導波路を構成するガラス材料を成膜する装置です.ターゲットの種類を変えることによりさまざまな屈折率をもつガラス薄膜が得られます.本装置はチャンバ内に直径6インチのターゲットを 3種類設置でき,現在のメイン材料はSiO2(n=1.451),Ta2O5/SiO2混合ガラス,HfO2です.また基板にバイアス電力を加えることができ,これにより導波路の段差の埋め込みが容易になります.

真空蒸着装置

真空蒸着装置は金属膜を成膜する装置です.本蒸着器は水晶振動子膜厚モニタを搭載しており,高精度の金属薄膜形成が可能です.

PECVD装置

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)装置では,成膜する薄膜の元素を含んだ分解しやすい気体を反応空間に流し,そこで起こしたプラズマ中の低速の電子と気体の衝突により作られた励起活性種により活性化させ,基板上に薄膜を形成します.

熱酸化炉

熱酸化炉では酸素雰囲気中でSi基板を熱処理することにより,SiO2膜を生成できます.また導波路の低損失化のための窒素雰囲気中のアニール処理を行うこともできます.

RIE装置(SAMCO)

RIE(Reactive Ions Etching)装置ではエッチングガスに高周波を印加することによってプラズマ化し,エッチングを行います.本装置では誘電体をエッチングします.

RIE装置(ファースト技研)

RIE(Reactive Ions Etching)装置ではエッチングガスに高周波を印加することによってプラズマ化し,エッチングを行います.本研究室ではこちらの装置はポリマーエッチング専用で使用しています.

ICP-RIE装置

ICP(Inductively Coupled Plasma)-RIE装置は放電形式に誘導結合型を用いているRIEです.本装置では半導体材料をエッチングします.

EB描画装置

エリオニクス社製のEB描画装置です.

プリズム膜厚屈折率計

プリズム膜厚屈折率計はプリズムを用いて膜厚と屈折率を同時に測定できる装置です.

AFM

AFM(Atomic Force Microscope)は走査型プローブ顕微鏡の一種で,試料と探針の原子間に働く力を検出して画像を得る装置です.AFMを用いて試料の表面の状態を観察します.

マスクアライナー

マスクアライナーはフォトマスクのパターンを基板に転写する装置です.

デクタック

デクタックは微小な段差を測定することができる装置です.

オゾンクリーナー

スピンコーター

超純水

超純水供給装置ULpure(うるぴゅあ)


測定室(5F)

SEM

走査型電子顕微鏡です.

自動調心システム

駿河精機製の自動調新システムです.PCにGPIBで接続されており自動でファイバ調心することができます.

各種調心装置

光ファイバを調心調心したり,光学系を構築することができます.

ダイボンダー

ワイヤーボンダーです.

マルチコアファイバ接続装置

複数のシングルモードファイバから受けた光を,光学系を用いてマルチコアファイバのそれぞれのコアに結合させる装置です.オプトクエスト社製.

NFP・FFP測定装置

光線の近視野像や遠視野像を測定する装置.浜松ホトニクス社製.

ファイバクリーバー

光ファイバをクリーブする装置.250ミクロン径まで対応.フジクラ社製.

各種測定機器

スペクトルアナライザー(Anritsu)
波長可変レーザ(Anritsu)
マルチポートパワーメータ(Agilent)
He-Neレーザ
偏光測定器(NTT-AT)
偏光測定器(THORLABS)
ファイバ型増幅器
可変フィルタ
パワーメータ
波長可変レーザ(Agilent)
スペクトルアナライザ(Agilent)
サンプリングオシロスコープ

上記の他にも様々な測定機器を所有している.

暗室(3F)

暗室です.大学院工学研究棟3Fにあります.

水冷アルゴンイオンレーザ

アルゴンイオンレーザです.コヒレント社製.

光ネットワークアナライザ

ネットワークアナライザです.ADVANTEST社製.

はなれ実験室(総合研究棟7F)

総合研究棟7Fにある共用実験室の一部を専有しています.

メカノケミカル研磨装置

ナノファクター社の研磨装置です.

ダイシングソー

基板等を電動ノコギリで切る装置です.ディスコ社製.

学生室

学生室は大学院工学研究棟4Fと5Fにあります.基本的に4Fは院生室,5Fは卒研生室となっています.
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